Tekscend Photomask　在韩国生产14纳米以下产品

　　Tekscend Photomask将开始在韩国生产用于尖端半导体的光掩模。该公司已于六月开始在其韩国基地（利川市）建设第三工厂，预计2027年7月竣工。该工厂可生产满足14纳米及以下节点的尖端产品，以满足尖端领域外部销售光掩模的市场需求。第三工厂投产后，Tekscend不仅能满足首尔周边现有半导体产业集群的需求，还能满足最近公布的西南部新集群的需求。作为外部销售市场份额领先的光掩模生产商，该公司将承担起稳定供应产品的责任。