JX金属　探讨继续在全球投资溅射材料业务

　　JX金属将以全球视角探讨半导体溅射靶材的继续投资。该公司心系主要客户完成设备投资的“2024年美国”，将于下一财年制定投资计划。JX金属本财年决定投入约320亿日元，在日本和台湾实施扩产投资，两处扩产投资均计划2023年下半财年之前开始投产。到2025年下半财年，全球产能将较2020财年扩大约80%。该公司产品在逻辑芯片类等尖端领域具有优势，今后其需求也有望以超越市场发展的趋势扩大，因此该公司将在全球验证追加投资的可行性。