JX金属　以CVD和ALD前驱体实现100亿日元营业利润

　　JX金属欲通过用于尖端半导体薄膜的化学气相沉积法（CVD）和原子层沉积法（ALD）用前驱体实现100亿日元（约合5亿元人民币）的营业利润，将其培养成与半导体溅射靶材并列的半导体材料业务支柱。半导体溅射靶材本财年营业利润预计超过100亿日元。该公司在茨城事业所日立地区（茨城县日立市）新建的量产生产线将从2026年投产后开始贡献利润。林阳一社长表示，“预计至2030年左右有望实现10亿日元（约合5000万元人民币）的利润”。此外，除了目前供应的钼系产品外，JX金属还欲开发新产品，以满足多样化需求。