JX金属 在美国投资120亿日元 扩产溅射靶材

  JX金属将在美国投资120亿日元,用于强化半导体溅射靶材等的生产体制。该公司于3月10日公布,其已在美国亚利桑那州拿下了工厂用地,面积是附近现有工厂面积的六倍左右,为26万平方米,土地所得金额为30亿日元。今后将投资90亿日元构筑新业务等产品的生产体制,其中规划30亿日用于建设半导体溅射靶材设备。在获得管辖机关批准的前提下,目标2024财年以后开始投产。由于JX金属的溅射靶材在逻辑类等尖端领域具有优势,今后预计还会继续实现超出市场增长的需求扩大。

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