AGC　扩产EUV曝光材料

　　AGC于4月27日公布将扩大EUV（极紫外线）曝光用光掩膜坯的生产能力，在其独资子公司的AGC Electronics（福岛县）引进可生产满足细微化要求的新一代产品的生产设备。计划2024年1月投产，通过阶段性扩产在2025年把EUV光掩膜坯的生产能力较现在提升30%。投资金额未公开。在极为细微的半导体制造过程中，EUV光掩膜坯是EUV曝光环节里不可或缺的材料。高性能半导体在实现新一代高速通信和自动驾驶等方面是高速处理信息的必需品，EUV光掩膜坯的需求有望继续扩大。