东京应化　目标2027年量产EUV用金属光刻胶

　　东京应化工业计划至2027年开始量产用于EUV（极紫外光刻）工艺的金属氧化物光刻胶（MOR）。由于该产品具备较高的光吸收性和蚀刻耐性等特性，在正式采用之前的客户验证已取得重大进展。（取缔役常务执行董事兼开发本部长大森克实表示）“包括公司现有产品在内，光刻胶销量有望增加”。随着推动半导体性能提升的微细化进程不断推进，东京应化将借此扩大在尖端领域的光刻胶市场份额。