琳得科　将量产CNT防尘膜　用于EUV光刻

　　琳得科（LINTEC）于6月1日在产业技术综合研究所筑波中心中央事业所（茨城县筑波市）内开设了“琳得科筑波创新创造中心”，以备量产先进半导体制造中极紫外线（EUV）光刻机用碳纳米管（CNT）防尘膜。该公司计划最早将于年内开始量产，最终目标年产能为1万片。该产品是用于防止异物附着在光掩模上的防尘膜。量产的初始投资预算约为50亿日元（约合2.2亿元人民币）、2025财年投资约二十几亿日元，2026财年还将探讨追加投资约30亿日元（约合1.3亿元人民币）。