
日本曹达 光刻胶材料新工厂将于本财年内投产
日本曹达计划于2025财年内开始商业化运营半导体光刻胶材料“VP聚合物”新工厂。该公司欲抓住半导体市场的扩大需求,力争早日实现高投产率。同时还将致力于开发底层膜和顶部涂层等周边材料,瞄准扩大业务的商机。日本曹达在原有设备所在的千叶工厂(千叶县市原市)内投资约25亿日元(约合1.25亿元人民币),于2024年建成新工厂,将产能提升至了原来的两倍。目前新设备所生产的产品正在进行客户认证,计划在2025财年内完成评估,并开始正式供应产品。
日本曹达计划于2025财年内开始商业化运营半导体光刻胶材料“VP聚合物”新工厂。该公司欲抓住半导体市场的扩大需求,力争早日实现高投产率。同时还将致力于开发底层膜和顶部涂层等周边材料,瞄准扩大业务的商机。日本曹达在原有设备所在的千叶工厂(千叶县市原市)内投资约25亿日元(约合1.25亿元人民币),于2024年建成新工厂,将产能提升至了原来的两倍。目前新设备所生产的产品正在进行客户认证,计划在2025财年内完成评估,并开始正式供应产品。