日本化药　光刻胶在美国扩产20%　进入功率半导体市场

　　日本化药或将于2025年内在其美国工厂扩产用于半导体元器件生产的光刻胶。该公司一直以来凭借用于微机电系统（MEMS）的永久光刻胶而发展壮大，今后将把范围扩大至功率半导体和尖端半导体的生产工艺，正式推进全方位战略。日本化药计划把剥离材料等培养成下一支柱业务，为满足产品需求增长，拟将光刻胶的产能较以往提高20%。此外，该公司还欲加速获得用于先进封装的线路重布层（RDL）用i线光刻胶订单，不断提高面向后端工程的产品完整性。