扶桑化学　半导体研磨用胶体二氧化硅产能翻番

　　扶桑化学工业计划截至2030年把超高纯度胶体二氧化硅产能翻番。该公司产品被用作半导体硅晶圆和器件用CMP（化学机械研磨）研磨液的磨粒剂，尤其在尖端的逻辑与存储器领域占有较高的市场份额。扶桑化学通过在日本国内两处工厂扩产，计划截至2025把产能提高至2022财年的1.5倍。剩余的50%将在两年内制定扩产计划，预计通过数百亿规模的追加投资以及2027年左右投产的新生产线来实现。增产部分的产品扩销给已有客户外，还预计供应给中国等国的新兴研磨液生产商。