佳能　半导体曝光装置　ArF干式扫描仪向商业化发展

　　佳能计划通过推出新产品来扩大其半导体曝光装置的产品线，以此向市场发起攻势。该公司目前正在着力开展运用纳米压印光刻（NIL）技术进行低耗电与低成本形成精细电路图形的半导体制造设备、KrF（氟化氪）扫描仪/步进机和i-line步进机的半导体曝光装置。佳能还力争本财年下半年实现ArF（氟化氩）干式扫描仪的商业化，以完整的产品线来满足客户需求。该公司2024年的半导体曝光装置销量实现了大幅增长，今年还欲凭借后端工程装置询价活跃的良好态势，进一步扩销半导体生产装置。