三菱化学集团　积极投资半导体材料

　　三菱化学集团欲凭借半导体材料业务中全球领先水平的产品参与市场竞争。由于电路图案设计向微细化发展，对尖端光掩模用防静电剂有旺盛的需求。因此该公司正在探讨扩产，计划2027年左右投产，以满足新一代工艺对该产品日益增长的需求。光刻胶用光敏聚合物方面，在市场占有率高的氟化氩（ArF）用途的基础上，该公司计划于2025年建成EUV（极紫外线）用光敏聚合物量产设备，向市场展开攻势。三菱化学集团将集中精力扩销具有优势的产品，进一步提高市场影响力。