三井化学　岩国大竹工厂量产半导体保护膜新一代产品

　　三井化学于5月28日宣布将新增生产装置，生产保护半导体电路原版（光掩模）的薄膜材料“PELLICLE”的新一代产品，以满足最尖端半导体制造中不可或缺的新一代EUV（极紫外线）光刻装置用途需求。该公司拟在岩国大竹工厂（山口县和木町）新增年产能为5000张的装置，计划2025年12月竣工，投资金额未公开。在半导体晶圆上绘制电路图案的光刻工艺中，PELLICLE发挥着防止灰尘等杂质粘附在光掩模上的作用。三井化学是占据该产品全球最大市场份额的生产商。