东芝 正式以纳米压印量产闪存

  业务重组中的东芝,正在稳步推进尖端半导体投资。闪存方面,从佳能订购了新曝光装置,用于纳米压印(NIP)量产工艺。此外,ASIC(专用集成电路)采用了美国电子回路自动化设计工具(EDA)公司的产品,实现了低耗电。该公司在东芝储存器(TMC)四日市工厂引进了佳能的纳米压印装置。首先引进一个群集(4台机器构成),用于以可量产试制品。该装置可生产线幅为11纳米的半导体器件,生产量为80张每小时(口径300毫米晶圆)。在EUV(极紫外线)装置开发落后的背景下,该公司实现全球首个纳米压印量产闪存,备受瞩目。

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