JX金属　目标半导体薄膜用材料销量增至三倍

　　JX金属欲扩大供应先进半导体薄膜的化学气相沉积法（CVD）和原子层沉积法（ALD）所需的前驱体。3D NAND闪存在AI（人工智能）服务器中的用量在不断增加，该公司的前驱体已被应用于提升3D NAND闪存性能的关键材料——“字线”（Word Line）中，目前订单量正在增加。鉴于该产品未来还有望被多家企业采用，JX金属已在去年开始量产的东邦钛茅崎工厂（神奈川县茅崎市）完成扩产，茨城事业所日立地区（茨城县日立市）新建的量产生产线也计划于2026年初投产。JX金属的取缔役副社长兼执行董事菅原静郎表示，“预计销量最高有望达到现在的三倍。”