三菱化学　看好半导体材料业务

　　三菱化学宣布将商业化开展超高纯度胶体二氧化硅业务。该公司计划在九州事业所福冈片区投入至少50亿日元（约合2.2亿元人民币）新建生产设备，预计2028年10月开始商业运行。超高纯度胶体二氧化硅用作半导体晶圆表面研磨的CMP（化学机械研磨）浆料中的磨粒材料。半导体制造工艺对杂质管控极为严苛，而该产品纯度可达99.9999%以上，其使用量正在持续增加。目前扶桑化学工业占据全球第一市场份额，在该市场遥遥领先。