AGC　EUV光掩模坯原版　2020年产能达三倍

　　AGC于11月28日公布将扩大极紫外线（EUV）曝光用光掩模坯的生产能力。该公司于今年二月也公布了产品增产情况，再加上此次扩产，今后将依次推进施工建设。光掩模坯产能规划为2020年达到现有产能的三倍。在电子机器高性能化、小型化和半导体芯片计算处理高速化、数据大容量化等背景下，芯片电路图案正在向更加细微化发展。EUV曝光技术可替代以往技术来满足细微化需求，未来有望获得更多订单。此次设备投资是在集团公司AGC电子（福岛县郡山市）的郡山本部工厂和本宫事业所（福岛县本宫市）增加生产线。