AGC EUV光掩模坯原版 2020年产能达三倍

  AGC于11月28日公布将扩大极紫外线(EUV)曝光用光掩模坯的生产能力。该公司于今年二月也公布了产品增产情况,再加上此次扩产,今后将依次推进施工建设。光掩模坯产能规划为2020年达到现有产能的三倍。在电子机器高性能化、小型化和半导体芯片计算处理高速化、数据大容量化等背景下,芯片电路图案正在向更加细微化发展。EUV曝光技术可替代以往技术来满足细微化需求,未来有望获得更多订单。此次设备投资是在集团公司AGC电子(福岛县郡山市)的郡山本部工厂和本宫事业所(福岛县本宫市)增加生产线。

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