凸版印刷　在上海工厂扩产光掩模

　　凸版印刷于1月19日公布将加强半导体用光掩模业务。该公司欲扩大其生产子公司的上海工厂——上海凸版光掩模，计划2018年4月在该工厂生产65/55纳米光掩模，同一年内开始生产14纳米光掩模。同时，该公司还将协同日本、台湾及中国大陆的生产基地，目标2020年在亚洲市场的整体营业额达到450亿日元。该公司还将推进开发用于低于7纳米的新一代EUV（极紫外光）模等。凸版印刷在中国拥有第一大市场份额，今后将借助新生产设备满足客户对稳定供应尖端产品的需求。此外，该公司还将突出从短期交货到保护膜更换的一体化生产。