东芝　正式以纳米压印量产闪存

　　业务重组中的东芝，正在稳步推进尖端半导体投资。闪存方面，从佳能订购了新曝光装置，用于纳米压印（NIP）量产工艺。此外，ASIC（专用集成电路）采用了美国电子回路自动化设计工具（EDA）公司的产品，实现了低耗电。该公司在东芝储存器（TMC）四日市工厂引进了佳能的纳米压印装置。首先引进一个群集（4台机器构成），用于以可量产试制品。该装置可生产线幅为11纳米的半导体器件，生产量为80张每小时（口径300毫米晶圆）。在EUV（极紫外线）装置开发落后的背景下，该公司实现全球首个纳米压印量产闪存，备受瞩目。